- PVD-процесс
-
Напыление конденсацией из паровой (газовой) фазы (англ. physical vapour deposition; сокращённо PVD) обозначает группу методов напыления покрытий (тонких плёнок) в вакууме, при которых покрытие получается путём прямой конденсации пара наносимого материала.
Различают следующие стадии PVD-процесса:
- Создание газа (пара) из частиц, составляющих напыление;
- Транспорт пара к субстрату;
- Конденсация пара на субстрате и формирование покрытия;
Содержание
Введение
К группе PVD-методов относятся перечисленные ниже технологии, а также реактивные варианты этих процессов.
- Методы испарения (англ. evaporative deposition);
- Термическое испарение
- Испарение электронным лучом (англ. electron beam evaporation);
- Испарение лазерным лучом (англ. pulsed laser deposition, pulsed laser ablation): Атомы и ионы испаряются лазером, работающим в импульсном режиме.
- Испарение электрической дугой (англ. cathodic arc deposition, Arc-PVD): Атомы и ионы освобождаются из исходного состояния материала в результате воздействия сильного тока, текущего в электрической дуге между двумя электродами, и переходят в газовую фазу.
- Эпитаксия молекулярным лучом (англ. molecular beam epitaxy)
- Распыление (англ. sputtering): Исходный материал распыляется бомбардировкой ионным потоком и переходит в газовую фазу.
- Напыление с поддержкой ионным лучом (англ. ion beam assisted deposition, IBAD)
- Имплантация ионов
Применение
PVD-процесс применяют для создания на поверхности деталей, инструментов и оборудования функциональных покрытий — износостойких, коррозионно-стойких, эрозионностойких, антифрикционных,антизадирных, барьерных и т. д Процесс используется при производстве часов с золотым покрытием.
Материалами для напыления служат диски из титана, алюминия, вольфрама, молибдена, железа, никеля, меди, графита, хрома и их сплавов; ацетилен (для покрытий, содержащих углерод); азот.
С помощью PVD-процесса получают покрытия толщиной до 5 мкм, обычно после нанесения покрытия поверхность не требует дополнительной обработки.
См. также
Примечания
Литература
- Mattox, Donald M. Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing: Film Formation, Adhesion, Surface Preparation and Contamination Control.. Westwood, N.J.: Noyes Publications, 1998. ISBN 0-8155-1422-0.
- Powell, Carroll F., Joseph H. Oxley, and John Milton Blocher (editors). Vapor Deposition. The Electrochemical Society series. New York: Wiley, 1966.
Ссылки
Для улучшения этой статьи желательно?: - Викифицировать статью.
- Проставив сноски, внести более точные указания на источники.
Категория:- Покрытия
Wikimedia Foundation. 2010.